項目

規格

使用溶劑

• 碳氫溶劑(碳化水素)、改性醇、或其他非水性有機溶劑皆可

清洗流程

• 流程1：超音波浸洗1→超音波浸洗2→淨液淋洗→蒸氣淋洗→真空乾燥
  ​
• 流程2：超音波浸洗1→淨液淋洗→蒸氣淋洗→真空乾燥
   
• 流程3：蒸氣淋洗→淨液噴洗→真空乾燥
   
• ※CH-HOCV系列單腔式-自動真空清洗機可針對需求規劃不同的清洗製程

設備產出

• 20~50min/籃(流程與清洗重量不同，產出時間不同)

洗劑用量

• ＜100ml/籃

• >180L/hr(以碳氫溶劑而論)

• 手動/自動(選配)

洗籃荷重

• 100~800kg

洗籃轉動機構

• 選配

設備規格

• 可客製工業用超音波清洗機設備

• CH-HOCV系列自動清洗機全機在密閉式真空環境中作動，安全、防爆、節能減排，洗劑耗用量少
   
• 本真空清洗機大氣排放量遠低於VOC標準，符合ROHS或任一其他之環保規範
   
• 可針對不同零件設定多種清洗程式
   
• 清洗、乾燥一機到位，不需另外換槽
   
• 籃具轉動機構，使清洗更完全且無清洗盲區(CH-HOCV-R系列)
   
• 清洗機清洗後無氧化現象發生。
   
• 零廢水排放之問題